關(guān)鍵字:清洗設(shè)備、非標設(shè)備及其它、超聲波清洗設(shè)備、Scrub清洗設(shè)備、藥液(氫氟酸)清洗設(shè)備、C02清洗設(shè)備及自動化非標設(shè)備

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      東莞市日和自動化設(shè)備有限公司

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      產(chǎn)品詳情

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      藥液刻蝕清洗機

      藥液刻蝕清洗機、Scrub清洗設(shè)備、藥液(氫氟酸)清洗設(shè)備

      所屬分類:

      藥液刻蝕清洗機


      產(chǎn)品描述

      設(shè)備概要:浸漬濕法蝕刻機 產(chǎn)品:6英寸晶圓&晶圓盒。

      功能:在藥液中水平搖動晶圓,蝕刻晶圓表面。      

      第1槽:使用氯化鐵的蝕刻槽。 液溫50±0.3℃。水平擺動周期2.0±0.2秒

                  蝕刻時間計時器控制

                  平均蝕刻速率23A/sec。(Sigma 1A)

                  蝕刻后圖案線寬偏差±4um

                  (線寬30~170um)              

      第2槽:純水QDR第一沖洗槽。          

      第3、4槽:純水溢流第2沖洗槽。

      特點:通過自動機忠實地再現(xiàn)了客戶開發(fā)的手動蝕刻工藝。(客戶已申請專利)  

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      藥液刻蝕清洗機

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